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            日立離子濺射鍍膜儀
            發布時間:2016-04-11 來源: 【字號:  

            儀器的基本信息:

              儀器名稱:日立離子濺射鍍膜儀

              型    號:MC1000

              制 造 商:日立

              產    地:日本

              購買年份:2015年

              存放地點:公共實驗平臺

              管理人員:陳 麗

              聯系電話:027-87700819

              儀器用途:

              可滿足多種樣品的鍍膜需求,提高掃描電鏡下的成像質量。

              儀器的技術參數:

              1 放電類型:磁控二極管放電類型;

              2 放電電壓:最大0.4KV,直流可調;

              3 放電電流:最大40mA,直流可調;

              4 Au鍍膜速率:15nm/min;

              5 Au(進口)純度:99.99%;

              6 氣壓調節控制:7Pa-20Pa;

              7 樣品室尺寸:Φ100mm,H80mm。

              2.8最大樣品尺寸:Φ 60 mm,δ 20 mm

              2.9 機械泵抽速: 135L/min(50Hz)

            文檔附件:
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