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            離子濺射鍍膜儀
            發布時間:2016-03-15 來源: 【字號:  

            儀器的基本信息:

              儀器名稱:離子濺射鍍膜儀

              型    號:EM ACE200

              制 造 商:徠卡

              產    地:奧地利

              購買年份:2015年

              存放地點:公共實驗平臺

              管理人員:陳麗

              聯系電話:027-87700819

            儀器用途:

              可滿足多種樣品的鍍膜需求,提高掃描電鏡下的成像質量。

            儀器的技術參數:

              1、操作參數:

              濺射電流0-150mA;濺射時間1-999秒;

              2、控制系統

              內置式觸摸屏控制面板;自動鍍膜;

              3、鍍膜儀功能

              金屬濺射鍍膜,功能可選方向性或彌散性;帶有氬氣灌洗功能;帶有預濺射功能;

              4、樣品室

              內徑:寬140*深145*高150mm;工作距離30-100mm;標準工作臺80mm,可插入18SEM樣品座;

              5、真空泵

              二級真空旋轉泵,金屬連接管,帶有油污過濾器;

              6、系統維護與清潔

              樣品室艙門、樣品室內壁金屬保護罩、鍍膜擋板、靶材、樣品臺都可簡易拆卸、清潔。

            文檔附件:
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